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  • 光刻机工艺的原理及设备

    的不断提升,光刻机缩激光波长也在不断的缩小,从436nm、365nm的近紫外(NUV)激光进入到246nm、193nm的深紫外(DUV)激光,现在DUV光刻机是目前大量应用的

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

    2020-09-02 17:38

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

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    2021-07-29 09:36

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    2020-06-10 19:23

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 国内单片不断实现突破,国内单片发展现

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    2018-09-03 16:48

  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展

    水平,购买或者开发EUV光刻机是否必要?中国应如何切实推进半导体设备产业的发展?EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻,是一种应用于现代集成电路制造的

    2017-11-14 16:24

  • 中国功率器件市场发展现

    中国功率器件市场发展现状:功率器件包括功率 IC 和功率分立器件,功率分立器件则主要包括功率MOSFET、大功率晶体管和IGBT 等半导体器件,功率器件几乎用于所有的电子制造业,所应用的产品包括

    2009-09-23 19:36

  • 三种常见的光刻技术方法

    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25

    2012-01-12 10:56

  • 中国传动网:中国光伏行业发展“曙光重现”

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    2014-04-25 15:06