，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm波长的EUV取代193nm的DUV光源，这样也能大幅提升光刻机的分辨率。 在上世纪90年代后半期，大家都在寻找取代193nm光刻
2020-07-07 14:22
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
2021-07-29 09:36
咨询个问题，上个月在2011 TI Technology Day上，现场发的样品申请表上申请的样品能给落实吗？何时能落实呢？ 麻烦问问，怕申请重了，因为如果不能落实，我们就得赶紧重新申请或者联系代理商了。 谢谢！
2018-06-21 18:59
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
stm8系列的何时能带上比较器？ 有些单片机比如*芯，8位机，国产某t的8位机，都早有比较器了。 莫非是为了差异化竞争？
2024-05-06 06:48
ST何时能出支持6LoWPAN的单芯片解决方案芯片呀？这个目前很火呀，无线嵌入式物联网多大的市场。总出蓝牙解决方案有点太OUT了吧！真是着急呀！大家希望出这样芯片的，帮忙顶一顶！强烈建议！
2019-03-26 07:39
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波
2017-11-14 16:24
