落后三年多（台积电和三星的14/16纳米制程工艺都是在2015年开始量产的），这实际上就是美国对中国大陆ＩＣ制造设备的禁运目标。ＩＣ制造设备种类非常多，价格都非常昂贵，其中最重要的是
2018-06-13 14:40
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
”、“先进医疗机器人”四大主题论坛。将秉承国际性、专业性、多领域的风格，汇聚600余名***部门、行业协会、科研机构、高等院校及相关专业人士的智慧，探讨“两化深度融合”与“中国制造2025”、“工业
2015-03-25 10:22
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
、科技和工农业生产等各个领域。以微机电系统技术为基础的智能传感器代表了传感器的主要发展方向，其技术的进步不仅可以提高产品智能化水平，还可推动中国制造向中国智造的发展。
2020-08-18 06:31
冲刺在中国中、低压变频器市场，外资品牌仍占主导地位。同时，我国变频器配套产业的实力相对较弱，国产品牌无论在技术、加工制造、工业设计等方面还是在资金实力方面，都与国外品牌存在一定差距。我国变频器起步晚
2014-04-18 15:37
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
