光刻机原型 接下来ASML在2006年推出了EUV光刻机的原型，2007年建造了10000平方米的无尘工作室，在2010年造出了第一台研发用样机NXE3100，到了2015年终于造出了可量产的样机，而在
2020-07-07 14:22
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复
2021-07-29 09:36
超越Java：Python正式登顶世界第一编程语言
2019-04-08 11:43
超算世界第一，中国第一？ 神威*太湖之光，凭借这台超算，中国又一次走到世界之巅，而且，这一次，中国凭借的是自己的技术。然
2016-06-22 11:15
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。 只有对聚焦电极改进才是最佳选择，以下介绍该进后的电极工作原理。通过把电子束压缩到中心线达到缩束的目的，使电子束分布在一条直线
2025-05-07 06:03
[table][tr][td] 全球首发 全世界第一个protues 仿真stm32 f103 实现spi 仿真原理图如下（proteus仿真工程文件可到本帖附件中下载） stm32单片机
2018-07-06 04:08
，以便能在上面印制第一层。这一重要步骤通常被称为 "沉积"。随着芯片变得越来越小，在晶圆上印制图案变得更加复杂。沉积、刻蚀和光刻技术的进步是让芯片不断变小，从而推动摩尔定律不断延续
2022-04-08 15:12
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
