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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

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    的生产厂家并不多,在28纳米以上线宽的时代,日本的佳能和尼康都能制造(对,就是造单反相机的那个佳能和尼康),但是IC制程工艺进步到十几纳米以下时,佳能和尼康就落后了,基本退出了光刻机市场。目前,世界上唯一

    2018-06-13 14:40

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    2017-11-25 14:30

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

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    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

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    移动电话用户将超过美国与日本,成为世界上手机最多的国家。到了2010年,我国移动电话用户将达到2亿。手机持有者希望在任何地方都能获得通信服务,这就势必要求移动通信基站无处不有。电磁波能够无缝覆盖使电磁

    2019-07-26 07:20

  • 喷胶有什么典型应用 ?

    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00

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      ARM是一家成立于1990年的芯片设计公司,总部仍位于英国剑桥。  ARM公司本身并不生产处理器,而是将其技术授权给世界上许多著名的半导体、软件和OEM厂商。全世界有超过95%的智能手机和平

    2020-06-22 09:33

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    BS全称british standard 大不列颠标准,就是英国标准。英国标准学会(British Standards Institution; BSI)世界上第一个国家标准化机构。英国***承认并

    2016-11-28 10:14

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    1993年9月,留美学者姜万勐、孙燕生生产出世界上第一台VCD。

    2020-04-08 09:00