上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求
2022-08-04 17:18 伯东企业(上海)有限公司 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD(Liquid Crystal Display)面板制造领域,曝光机
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
泊苏 Type C 系列防震基座在半导体光刻加工电子束光刻设备的应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、企业背景与光刻加工电子束光刻设备挑战某大型半导体制造企
2025-01-07 15:13 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
法拉电容属于双电层电容器,它是世界上已投入量产的双电层电容器中容量最 大的一种,其基本塬理和其它种类的双电层电容器一样,都是利用活性炭多孔电极和电解质组成的双电层结构获得超大的容量。 法拉
2022-12-12 16:39 深圳市御坤科技有限公司 企业号