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  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的

    2021-07-29 09:36

  • 光刻机

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    2022-11-20 08:48

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    一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下

    2021-01-12 10:17

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    有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢

    2012-06-26 12:40

  • 芯片制作工艺流程 二

    的脱落以及防止湿法腐蚀时产生侧面腐蚀(side etching)。光刻胶的涂敷是用转速和旋转时间可自由设定的甩胶来进行的。首先、用真空吸引法将基片吸在甩胶的吸盘上,将具有一定粘度的

    2019-08-16 11:11

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    2021-02-05 09:41

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    看一看,数一数,制造一枚合格的芯片都需要哪些设备?光刻机光刻机芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片

    2018-09-03 09:31

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    本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:48 编辑 丝印和光刻的都得去除

    2012-10-16 14:32

  • 一文带你了解芯片制造的6个关键步骤

    可以做到多小。在这个阶段,晶圆会被放入光刻机中(没错,就是ASML生产的产品),被暴露在深紫外光(DUV)下。很多时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。光线会通过“掩模版”投射到晶圆上,光刻机的光学系统

    2022-04-08 15:12

  • 单片输出信号与电机驱动信号之间为什么要用光耦进行隔离

    电动机是有线圈的,它相当一个电感,在断电的瞬间会产生3——5倍大的感应电压,如果没有隔离。上千伏的电压会将单片击穿损坏。而单片不仅接着电机,它可能还接着传感器等,这样会使一个系统全部瘫痪,因为光

    2021-08-31 07:10