翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
的生产厂家并不多，在２８纳米以上线宽的时代，日本的佳能和尼康都能制造（对，就是造单反相机的那个佳能和尼康），但是ＩＣ制程工艺进步到十几纳米以下时，佳能和尼康就落后了，基本退出了光刻机市场。目前，世界上唯一
2018-06-13 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
求试验用光纤激光器LD的驱动电路啊 用于光纤传输系统 不用太复杂
2012-05-17 07:24
如何不用驱动芯片单片机直接驱动LED液晶屏？
2023-10-12 07:39
最近要用485做一个小项目，是露天的。有几个问题想请教一下第一：我单片机是3.3V的但是很多485芯片都是5V的，如果我选用5V的485芯片，可以用光耦把单片
2019-10-28 19:46
光刻胶的光敏材料； 2、光电绘图仪使用光源有选择性地对部分光刻胶进行曝光； 3、曝光后光刻胶的化学特性发生变化，光刻胶是
2024-06-16 11:17
为什么要用光耦？光耦的好处是什么？怎么用光耦？
2021-10-28 06:30
