光刻机制作芯片过程非常复杂，而光刻机是制造芯片最重要的设备之一，由于先进光刻机的技术封锁，中国
2021-12-30 11:23
该技术的实施还需要借助高成本的纳米光刻制造技术。
2019-06-28 11:53
刻的基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。
2018-01-09 13:37
国产芯片发展多年，凭借华为海思、紫光集团、中芯国际、长江存储等多家半导体企业，为国内芯片助力成长。提高国产芯片供应链体系自主化，不过这些半导体企业都是基于传统的硅技术展开研发。
2021-01-19 15:38
`光刻机MPA500FAb用光栅尺传感器(扫描部位)供应。型号：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04
因为在科技圈发生的各种问题，比如华为等企业被美国供断芯片，国内一度为芯片供应问题而一筹莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在
2021-08-27 17:22
光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程，涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 设计与准备 在开始制作
2024-09-14 13:26
光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光。
2022-09-13 11:00
其全流程涉及了从 EUV 光源到反射镜系统，再到光掩模，再到对准系统，再到晶圆载物台，再到光刻胶化学成分，再到镀膜机和显影剂，再到计量学，再到单个晶圆。
2023-03-07 10:41
