这几年我国频频传出有关22nm芯片的新闻，包括了光刻机、导航定位、蓝牙语音等领域，由此可见22nm技术所能够应用的范围十分广泛，不过目前国际上最先进的制程已近是4nm了
2022-06-29 11:06
Intel 22nm光刻工艺背后的故事 去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011年下半年发布相关产品。
2010-03-24 08:52
我国在半导体行业一直都处于落后状态，不过近几年已经慢慢地开始追赶上来了，在半导体设备这方面，我国的上海微电子已经成功研发出了深紫外光光刻机，这种光刻机能够进行22nm制
2022-06-29 10:37
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV
2020-10-19 12:02
近日，上海新阳在投资者互动平台上表示，公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，ARF193nm
2019-12-04 15:24
据媒体称，上海电气将承担光刻机攻关任务，该股早盘应声涨停。但在28万股东采烈之际，上海电气盘后却发布了澄清公告。值得注意
2021-01-10 09:00
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到
2022-07-10 14:53
中芯国际接连取得突破，打破西方光刻机封锁，胜利女神在招手！在我国半导体行业内，一直存在着一个重大问题，那就是我国国产光刻机的精度仅为90nm，那么90nm精度的
2020-04-10 17:52
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深
2022-06-30 09:46
